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  • 源卓微纳取得用于半导体光刻设备的真空泵柜专利,将真空泵与外部环境隔开避免热量直接传递:真空泵

    源卓微纳取得用于半导体光刻设备的真空泵柜专利,将真空泵与外部环境隔开避免热量直接传递:真空泵

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    金融界2025年8月15日消息,国家知识产权局信息显示,源卓微纳科技(苏州)股份有限公司取得一项名为“一种用于半导体光刻设备的真空泵柜”的专利,授权公告号CN223227467U,申请日期为2024年

    2025-08-17
1 共1页

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