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源卓微纳取得用于半导体光刻设备的真空泵柜专利，将真空泵与外部环境隔开避免热量直接传递:真空泵
金融界2025年8月15日消息，国家知识产权局信息显示，源卓微纳科技（苏州）股份有限公司取得一项名为“一种用于半导体光刻设备的真空泵柜”的专利，授权公告号CN223227467U，申请日期为2024年
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金融界2025年8月15日消息，国家知识产权局信息显示，源卓微纳科技（苏州）股份有限公司取得一项名为“一种用于半导体光刻设备的真空泵柜”的专利，授权公告号CN223227467U，申请日期为2024年