金融界2025年8月15日消息，国家知识产权局信息显示，源卓微纳科技（苏州）股份有限公司取得一项名为“一种用于半导体光刻设备的真空泵柜”的专利，授权公告号CN223227467U，申请日期为2024年07月真空泵 。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种用于半导体光刻设备的真空泵柜，包括：柜体，所述柜体的侧壁或/和底壁设有紧密排布的第一通气孔；第一抽气风扇，安装于所述柜体的顶壁；集风罩，罩设于所述第一抽气风扇上方，下侧连接于所述柜体的顶部，上侧设有与外部排气管道连通的出风口；真空泵，位于柜体内部，所述真空泵具有抽气口和排气口；排气管路，所述排气管路一端与所述排气口连接，另一端穿过所述柜体固定于所述集风罩内真空泵 。
天眼查资料显示，源卓微纳科技（苏州）股份有限公司，成立于2016年，位于苏州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业真空泵 。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析，源卓微纳科技（苏州）股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目39次，财产线索方面有商标信息20条，专利信息180条，此外企业还拥有行政许可15个。
来源：金融界